晶體出現(xiàn)率分析儀

產(chǎn)品型號：ZMP-960

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：上海市

更新時間：2024-07-26

瀏覽次數(shù)：1492

產(chǎn)品簡介：

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。

產(chǎn)品特性Product characteristics

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	制藥

一、結(jié)構(gòu)原理

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。

該儀器具有超大測量范圍及高分辨率，同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。

二、產(chǎn)品介紹

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀可以直接對透明貼劑中析出的晶體進行掃描，按照規(guī)定掃描范圍進行掃描一定的面積，將其中的晶體識別出來并做數(shù)量統(tǒng)計。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。

三、性能指標

1.測量范圍：1μm ～ 100mm

2.圖像分辨率：900萬像素

3.光學(xué)平臺：100mm * 120mm

4 背景光源：反射光

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